電子探針X射線顯微分析儀概述(PPT 58頁)

1.1概述
1.2EPMA基本原理
1.3儀器基本結構
1.4定性定量分析方法
1.5樣品製備
1.6定量分析的步驟及注意事項
1.1EPMA概述
1.1.1電子探針的發展曆史及發展趨勢
現有EPMA主要生產廠家和產品：
1、日本島津公司EPMA—1720
2、日本電子公司JXA-8200
3、法國CAMECA公司SXFiveFE
EPMA發展趨勢
1.1.2電子探針儀器的分析特點
1.2電子探針的基本原理
1.2.1電子與物質的相互作用
圖1電子與物質交互作用產生的主要信息
1.二次電子
二次電子及二次電子像
2.背散射電子及背散射電子像
3.陰極發光
4.特征X射線
5.吸收電子
6.透射電子
7.俄歇電子
1.2.2EPMA定性分析原理
晶體衍射原理圖
特征X射線譜線圖
1.2.3EPMA定量分析原理
1.2.3定量修正——背景修正
1.2.3定量修正——死時間校正
1.3電子探針的基本結構
1.3.1電子光學係統
1.3.2X射線分光晶體譜儀
不同晶體的檢測範圍
2.X射線探測器
閃爍計數器
3.分光晶體譜儀的機械結構
1.3.3X射線測量記錄裝置
1.3.4光學顯微鏡及透射照明光源
1.3.5樣品室
1.3.6自動化分析係統
1.3.7真空係統
1.3.8掃描顯示係統
1.4樣品要求及製備
樣品製備
1.5分析方式
樣品麵分布圖
1.6定量分析的步驟
定量分析的注意事項
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