某半導體公司測量係統分析控製程序(doc 7頁)

某半導體公司測量係統分析控製程序內容摘要:
1．0目的
1．1了解測量器具量測的性能，是否能滿足測量要求。
1．2 對新進或維修後的量測設備，能提供一個客觀正確的變異分析及評價量測質量。
1．3 應用統計方法來分析測量係統之再現性及重複性，作為下列各項事項之參考：
1．3．1試驗設備是否需要校驗；
1．3．2是否可供使用；
1．3．3是否有人為因素造成之失準；
1．3．4是否需要修正校驗的周期及頻率。
2．0適用範圍
2．1適用於公司車載產品量測設備及量具的統計變差分析。
3．0定義
3．1測量儀器：任一用來量測產品特性之儀器皆稱為測量儀器。
3．2測量係統：用來對被測特性賦值的操作、程序、量具、設備、軟件以及操作人員的集合。
3．3測量係統分析：應用統計方法，基於實際之製程選擇適當之作業人數，樣本數及重複測試次數，以研究分析主要變差原因。
3．4再現性：測量一個零件的某特性時，不同評價人用同一量具測量平均值變差。
3．5重複性：測量一個零件的某特性時，一位評價人用同一量具多次測量的變差。
4．0職責
4．1計量室：負責製定並實施測量儀器校驗計劃。
4．2各使用部門負責使用儀器之變差分析（主要指重複性、再現性）及送校。
4．3設備維修部負責測量設備（不包括工具）之維護保養；各使用部門負責測量工具之維護保養。
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