集成電路工藝流程簡介(ppt 86頁)

圖形轉換：光刻
圖形轉換：刻蝕技術
幹法刻蝕
雜質摻雜
擴 散
離子注入
退 火
氧化工藝
氧化矽層的主要作用
SiO2的製備方法
化學汽相澱積(CVD)
物理氣相澱積(PVD)
集成電路工藝
作 業
CMOS集成電路製造工藝
雙極集成電路製造工藝
隔離技術
接觸與互連
集成電路工藝小結
作 業

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