常用光學薄膜的基本設備原理和方法（PPT 35頁)

光學鍍膜係統的組成及其作用；
真空的獲得和檢測方法；
用熱蒸發方法製造光學薄膜；
用濺射方法製造光學薄膜；
離子鍍原理和方法。
教學目的和要求
了解常用光學薄膜的基本設備、原理和方法。
獲得光學薄膜兩種工藝：物理氣相沉積和化學液相沉積（CLD）
物理氣相沉積（PVD）：在真空條件下，采用物理方法，
將材料源——固體或液體表麵氣化成氣態原子、分子或部分電離成離子，
並通過低壓氣體(或等離子體)過程，在基體表麵沉積具有某種特殊功能的薄膜的技術。
主要方法：真空蒸鍍、濺射鍍膜、電弧等離子體鍍、離子鍍膜及分子束外延等。
特點：須在真空下進行，成本高，但膜厚可以精確控製，膜層強度好。

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