光刻與刻蝕工藝培訓課件(PPT 119頁)
光刻與刻蝕工藝培訓課件(PPT 119頁)內容簡介
圖形曝光與刻蝕
ULSI對光刻有哪些基本要求?
潔淨室(1)
光刻原理(1)
光刻工藝過程
1、塗膠
可以開始塗膠了……
塗膠-----轉速Vs膜厚
2、前烘(softbake)--再次改善光刻膠粘附性
3、曝光(Exposure)
曝光後烘焙(PEB)
4、顯影(Development)
5、堅膜—顯影後必須進一步增強光刻膠粘附力
6、去膠
光刻機
曝光光源
光學曝光方法
套準精度
對準法則
光刻膠的基本屬性
基本光刻技術
*實際工藝中正膠用的比較多,why?
光刻膠的主要成分
掩膜版
掩膜板的製造
分辨率增強技術-移相掩膜
什麼叫刻蝕?
刻蝕術語
刻蝕
濕法刻蝕技術(1)
DRYETCHING幹法刻蝕
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ULSI對光刻有哪些基本要求?
潔淨室(1)
光刻原理(1)
光刻工藝過程
1、塗膠
可以開始塗膠了……
塗膠-----轉速Vs膜厚
2、前烘(softbake)--再次改善光刻膠粘附性
3、曝光(Exposure)
曝光後烘焙(PEB)
4、顯影(Development)
5、堅膜—顯影後必須進一步增強光刻膠粘附力
6、去膠
光刻機
曝光光源
光學曝光方法
套準精度
對準法則
光刻膠的基本屬性
基本光刻技術
*實際工藝中正膠用的比較多,why?
光刻膠的主要成分
掩膜版
掩膜板的製造
分辨率增強技術-移相掩膜
什麼叫刻蝕?
刻蝕術語
刻蝕
濕法刻蝕技術(1)
DRYETCHING幹法刻蝕
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