光刻與刻蝕工藝培訓課件(PPT 119頁)

圖形曝光與刻蝕
ULSI對光刻有哪些基本要求？
潔淨室（1）
光刻原理（1）
光刻工藝過程
1、塗膠
可以開始塗膠了……
塗膠-----轉速Vs膜厚
2、前烘（softbake）－－再次改善光刻膠粘附性
3、曝光（Exposure）
曝光後烘焙（PEB）
4、顯影（Development）
5、堅膜—顯影後必須進一步增強光刻膠粘附力
6、去膠
光刻機
曝光光源
光學曝光方法
套準精度
對準法則
光刻膠的基本屬性
基本光刻技術
*實際工藝中正膠用的比較多，why?
光刻膠的主要成分
掩膜版
掩膜板的製造
分辨率增強技術－移相掩膜
什麼叫刻蝕？
刻蝕術語
刻蝕
濕法刻蝕技術（1）
DRYETCHING幹法刻蝕
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