鋁陽極氧化及其應用知講講座(ppt 23頁)

一、 概述
二、 初期應用 [1]
三、 新方向：AAO模板
四、 功能材料
五、 鋁陽極氧化的一般原理
六、 陽極氧化膜的微觀結構
七、 KHR模型[7]
八、 KHR修正模型[8]
九、 陽極氧化膜的生長機理
十、 電場支持下的溶解模型[9]
十一、 臨界電流密度模型 [10]
十二、 體膨脹應力模型[11]
十三、 陽極氧化應用實例[12]
十四、 表麵處理
十五、 陽極氧化處理
十六、 染色處理
十七、 封孔處理
十八、 總結

一、 概述
鋁陽極氧化技術是用鋁金屬製件作陽極,在電解作用下鋁金屬製件表麵形成氧化物薄膜的過程。
初期應用
表麵改性——耐磨性、耐蝕性、電氣絕緣性,表麵色澤美觀。
近期應用
精密分離膜：耐熱、可調孔徑、規整
AAO模板：製作納米功能材料
四、 功能材料
偏光器件[2]
微孔中沉積Ni，光照射到膜表麵時, 會產生與孔垂直方向的光(H 偏光) 和與孔平行方向的光(V 偏光) ，二者光衰減常數不同。
光電材料[3]
微孔中沉積熒光物質
磁記錄材料[4]
微孔中沉積Fe 、Co 等磁性金屬,高度垂直磁性記錄介體
濕度傳感器[5]
陽極氧化膜所吸附的水分不同,其電阻會改變
催化劑載體[6]
大比表麵積，有序孔結構
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