幹膜曝光工藝(pdf 6頁)

一。光源的選擇
二。曝光時間(曝光量)的控製
三。照相底版的質量
四。曝光定位（適用於非自動曝光機）

幹膜曝光即在紫外光照射下，光引發劑吸收了光能分解成遊離基，遊離基再引發光聚合單體
進行聚合交聯反應，反應後形成不溶於稀堿溶液的體型大分子結構。曝光一般在自動雙麵曝
光機內進行，現在曝光機根據光源的冷卻方式不同，可分風冷和水冷式兩種，影響曝光成像
質量的因素除幹膜光致抗蝕劑的性能外，光源的選擇、曝光時間(曝光量) 的控製、照相底
版的質量等都是影響曝光成像質量的重要因素。
一。光源的選擇
任何一種幹膜都有其自身特有的光譜吸收曲線，而任何一種光源也都有其自身的發射光
譜曲線。如果某種幹膜的光譜吸收主峰能與某種光源的光譜發射主峰相重疊或大部分重疊，……

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