薄膜材料的表征與測量方法(ppt 55頁)

薄膜材料的表征與測量方法目錄：
1、薄膜厚度測量
2、薄膜結構的表征方法
3、薄膜成分的表征方法
4、薄膜附著力的測量方法

薄膜材料的表征與測量方法內容提要：
光學薄膜材料：薄膜的厚度、均勻性、光學性能。
隨著電子技術的發展，研究內容擴展到薄膜的各種結構特征、成分分布、界麵性質、電學性質。
如果沒有先進分析手段的建立和廣泛使用，就沒有現代意義上的薄膜材料製備技術。
光的幹涉條件：
從平行單色光源S射到薄膜表麵一點A的光將有一部分被界麵反射，另一部分在折射後進入薄膜中。
這一射入薄膜中的光束將在薄膜與襯底的界麵上的B點再次發生反射和折射。
為簡單起見，可先假設在第二個界麵上，光全部被反射回來並到達薄膜表麵的C點，在該點處，光束又會發生發射和折射。
要想在P點觀察到光的幹涉極大，其條件是直接反射回來的光束與折射後又反射回來的光束之間的光程差為波長的整數倍。

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