Foundry工廠專業名詞的解釋(doc 9頁)
Foundry工廠專業名詞的解釋(doc 9頁)內容簡介
Foundry工廠專業名詞的解釋內容提要:
1、Active Area 有源區(工作區) 有源晶體管(ACTIVE TRANSISTOR)被製造的區域即所謂的有源區(ACTIVE AREA)。在標準之MOS製造過程中ACTIVE AREA是由一層氮化矽光罩即等接氮化矽蝕刻之後的局部場區氧化所形成的,而由於利用到局部場氧化之步驟,所以ACTIVE AREA會受到鳥嘴(BIRD’S BEAK)之影響而比原先之氮化矽光罩所定義的區域來的小,以長0.6UM之場區氧化而言,大概會有0.5UM之BIRD’S BEAK存在,也就是說ACTIVE AREA比原在之氮化矽光罩所定義的區域小0.5UM。
2、ACETONE 丙酮 1. 丙酮是有機溶劑的一種,分子式為CH3COCH3。2. 性質為無色,具刺激性及薄荷臭味之液體。3. 在FAB內之用途,主要在於黃光室內正光阻之清洗、擦拭。4. 對神經中樞具中度企業管理性,對皮膚黏膜具輕微毒性,長期接觸會引起皮膚炎,吸入過量之丙酮蒸汽會刺激鼻、眼結膜及咽喉黏膜,甚至引起頭痛、惡心、嘔吐、目眩、意識不明等。5. 允許濃度1000PPM。
3、ADI 顯影後檢查 1.定義:After Developing Inspection 之縮寫2.目的:檢查黃光室製程;光阻覆蓋→對準→曝光→顯影。發現缺點後,如覆蓋不良、顯影不良…等即予修改,以維護產品良率、品質。3.方法:利用目檢、顯微鏡為之。
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1、Active Area 有源區(工作區) 有源晶體管(ACTIVE TRANSISTOR)被製造的區域即所謂的有源區(ACTIVE AREA)。在標準之MOS製造過程中ACTIVE AREA是由一層氮化矽光罩即等接氮化矽蝕刻之後的局部場區氧化所形成的,而由於利用到局部場氧化之步驟,所以ACTIVE AREA會受到鳥嘴(BIRD’S BEAK)之影響而比原先之氮化矽光罩所定義的區域來的小,以長0.6UM之場區氧化而言,大概會有0.5UM之BIRD’S BEAK存在,也就是說ACTIVE AREA比原在之氮化矽光罩所定義的區域小0.5UM。
2、ACETONE 丙酮 1. 丙酮是有機溶劑的一種,分子式為CH3COCH3。2. 性質為無色,具刺激性及薄荷臭味之液體。3. 在FAB內之用途,主要在於黃光室內正光阻之清洗、擦拭。4. 對神經中樞具中度企業管理性,對皮膚黏膜具輕微毒性,長期接觸會引起皮膚炎,吸入過量之丙酮蒸汽會刺激鼻、眼結膜及咽喉黏膜,甚至引起頭痛、惡心、嘔吐、目眩、意識不明等。5. 允許濃度1000PPM。
3、ADI 顯影後檢查 1.定義:After Developing Inspection 之縮寫2.目的:檢查黃光室製程;光阻覆蓋→對準→曝光→顯影。發現缺點後,如覆蓋不良、顯影不良…等即予修改,以維護產品良率、品質。3.方法:利用目檢、顯微鏡為之。
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