CVD金剛石(膜)製備技術及其應用進展(pdf 7頁)
CVD金剛石(膜)製備技術及其應用進展(pdf 7頁)內容簡介
CVD金剛石(膜)製備技術及其應用進展內容提要:
化學氣相沉積(CVD)方法是金剛石(膜)製備的主流技術,經過多年的發展,已從最初的微米金剛石膜發展到納米
金剛石膜,至目前高質量的單晶金剛石,應用領域不斷擴展。除了工業和民用領域外,納米金剛石膜在MEMS/NEMs、生物
醫學的應用進展引起業界關注,其中大尺寸單晶金剛石的製備是推動這些應用的關鍵。本文分析了MPCVD金剛石成膜特
點,討論了現階段CVD金剛石膜商業化推廣應用的製約因素,展望了今後金剛石膜的發展前景。
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化學氣相沉積(CVD)方法是金剛石(膜)製備的主流技術,經過多年的發展,已從最初的微米金剛石膜發展到納米
金剛石膜,至目前高質量的單晶金剛石,應用領域不斷擴展。除了工業和民用領域外,納米金剛石膜在MEMS/NEMs、生物
醫學的應用進展引起業界關注,其中大尺寸單晶金剛石的製備是推動這些應用的關鍵。本文分析了MPCVD金剛石成膜特
點,討論了現階段CVD金剛石膜商業化推廣應用的製約因素,展望了今後金剛石膜的發展前景。
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