PECVD法沉積類金剛石膜探討(pdf 8頁)

PECVD法沉積類金剛石膜探討內容提要：
以C2H2為碳源，Ar氣為輔助氣體，利用射頻等離子體化學氣相沉積的方法在載玻片和PET
膜上製各了類金剛石(diamond．1ike carbon，DLC)薄膜。利用紅外光譜(FTIR)和視頻光學接觸角
測量儀(DSAl00)對類金剛石薄膜的結構、成分進行了細致的分析；利用原子力顯微鏡(AFM)
分析了薄膜的表麵形貌；同時，透氧測試來研究薄膜的阻隔性能與薄膜的結構之間的關係。另外，
還利用摩擦磨損儀對薄膜的機械性能進行了研究。實驗結果表明，PECVD製備的DLC薄膜比較致
密、均勻。有較好的耐磨性能。
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