201249_KWY晶洲企業培訓知識管理資料(PDF 28頁)

主要內容：
1、用焦炭與石英砂（SiO2）混合高溫，產生粗矽。
（SiO2+2C=高溫=Si+2CO↑）
•2、將粗矽與氯氣高溫，生成四氯化矽。
（Si+2Cl2=高溫=SiCl4）
•3、將氫氣與四氯化矽高溫，生成多晶矽。
（SiCl4+2H2=高溫=Si+4HCl）
•4、高純多晶矽熔融籽晶提拉（直拉單晶爐）--單晶矽棒
高純度矽在石英中提取，以單晶矽為例，提煉要經過以下過程：石英砂一冶金級矽一提純和精煉一沉積多晶矽錠一單晶矽一矽片切割。
冶金級矽的提煉並不難。它的製備主要是在電弧爐中用碳還原石英砂而成。這樣被還原出來的矽的純度約98-99%，但半導體工業用矽還必須進行高度提純(電子級多晶矽純度要求11個9，太陽能電池級隻要求6個9)
熱的NaOH和IPA以及添加劑混合溶液溶液去除表麵切割損傷層製備絨麵；
Si+2NaOH+H2O =Na2SiO3+2H2
•HF去除矽片在清洗過程中形成的很薄的SiO2層
SiO2+6HF = H2[SiF6]+2H2O
•HCl去除矽表麵金屬雜質，鹽酸具有酸和絡合劑的雙重作用，氯離子能與Pt 2+、Au 3+、Ag +、Cu+、Cd 2+、Hg 2+等金屬離子形成可溶於水的絡合物。
..............................