培訓係列之真空鍍膜技術基礎(PPT 227頁)
主要內容
1. 真空鍍膜概論
2. 真空蒸發鍍膜
3. 真空濺射鍍膜
4. 真空離子鍍膜和離子束沉積技術
1.真空鍍膜概論
1.1真空鍍膜技術
1.2真空鍍膜特點
1.3真空鍍膜技術分類
1.4真空鍍膜的應用
2.真空蒸發鍍膜
2.1真空蒸發鍍膜原理
真空蒸發鍍膜原理圖
蒸發鍍膜成膜條件
2.2蒸發源
點蒸發源及點源對平麵的蒸發
小平麵蒸發源及小平麵源對平行平麵的蒸發
環形蒸發源——環形線蒸發源
環形蒸發源——環形平麵蒸發源
環形蒸發源——環形柱麵蒸發源
環形蒸發源——環形錐麵蒸發源
基片與蒸發源的相對位置
2.3真空蒸發鍍膜機
間歇式真空蒸發鍍膜機
半連續式真空蒸發鍍膜機
2.4特殊蒸發技術
蒸發鍍膜工藝中應考慮的問題
3.真空濺射鍍膜
3.1濺射鍍膜
與濺射率有關的因素
濺射鍍膜特點
3.2直流濺射鍍膜
3.2.1直流二極濺射裝置
3.2.2直流偏壓濺射裝置
3.2.3三極或四極濺射裝置
3.3直流磁控濺射鍍膜
直流磁控濺射鍍膜特點
3.3.2磁控濺射靶
磁控濺射靶電流-電壓特性
沉積速率
功率效率
3.3.3磁控濺射鍍膜機
間歇式磁控濺射鍍膜機
半連續式磁控濺射鍍膜機
連續式磁控濺射鍍膜機
3.4射頻濺射鍍膜
3.4.1射頻濺射鍍膜工作原理
3.4.2射頻濺射鍍膜裝置
射頻二極濺射裝置
射頻磁控濺射裝置
射頻濺射靶的結構
3.5反應濺射鍍膜
3.5.1反應濺射的機理及特性
3.5.2反應濺射鍍膜裝置
間歇式反應濺射裝置
半連續式反應濺射裝置
3.6各磁控濺射靶的磁場
3.6.2圓形平麵磁控濺射靶的磁場
3.6.3同軸圓柱形磁控濺射靶的磁場
3.6.4旋轉式圓柱形磁控濺射靶的磁場
3.6.5S-槍濺射靶的磁場
4.真空離子鍍膜和離子束沉積技術
4.1真空離子鍍膜
離子鍍的類型
4.1.1離子鍍原理和成膜條件
離子鍍原理
離子鍍的成膜條件
4.1.2等離子體在離子鍍膜中的作用
4.1.3離子鍍膜工藝參數
離子鍍工藝必須滿足的基本條件
4.1.4離子鍍膜裝置
直流二極型離子鍍裝置
三極型或多極型離子鍍裝置
多陰極離子鍍裝置
ARE活性反應離子鍍裝置
空心陰極放電離子鍍裝置
4.2真空電弧離子鍍膜
4.2.1弧光放電及真空電弧鍍機理
4.2.2真空電弧鍍蒸發源
4.3離子束輔助沉積技術
離子束輔助沉積機理
離子束輔助沉積技術分類
蒸發鍍的離子束輔助沉積技術
濺射鍍的離子束輔助沉積技術
低壓反應離子鍍的離子束輔助沉積技術
4.4離子束沉積技術
4.4.1離子束沉積技術機理
4.4.2離子束沉積技術的分類
質量分離式離子束沉積技術
團簇離子束沉積技術
氣固兩用離子束沉積技術
4.5分子束外延技術
分子束外延技術的特點
影響分子束外延的因素
分子束外延裝置
4.6微波電子回旋共振等離子體增強濺射沉積
微波等離子體濺射沉積特性
第一章氣相沉積技術概述
1.1氣相沉積技術的定義
1.2氣相沉積技術的分類
1.3氣相沉積技術的特點
1.4氣相沉積技術的應用
第二章化學氣相沉積技術
2.1化學氣相沉積定義
2.2化學氣相沉積物理化學基礎
2.2.1CVD反應方式
2.2.2CVD反應條件
2.2.3CVD反應過程
2.3化學氣相沉積反應物質源
2.4CVD塗層質量影響因素
2.5化學氣相沉積裝置
負壓CVD裝置主要性能簡要說明
CVD工藝技術分類
2.6高溫化學氣相沉積技術
2.6.1HT-CVD硬質塗層的分類
2.6.2HT-CVD的主要工藝參數
2.6.3HT-CVD對基體材料的要求
2.6.4HT-CVD技術一般工藝過程
2.7中溫化學氣相沉積技術
2.7.1MT-CVD反應機理
2.7.2含C/N有機化合物的選用
2.7.3主要工藝參數的影響
2.7.4MT-CVD工藝過程及設備
MT-CVD技術沉積工藝參數
第三章等離子體增強化學氣相沉積技術
3.1PECVD的定義及分類
3.2PECVD的工藝過程
3.3PECVD的特點
3.4射頻等離子體化學氣相沉積技術
直流偏壓式射頻等離子體CVD裝置
主要的工藝參數：
3.5直流等離子體輔助化學氣相沉積技術
3.6脈衝直流等離子體CVD技術
主要工藝參數：
3.7激光化學氣相沉積技術
激光CVD工藝的特點
激光CVD工藝的應用：
3.8金屬有機化學氣相沉積技術
MOCVD的應用：
3.9微波等離子體化學氣相沉積技術
應用：
3.10分子束外延技術（MBE）
MBE的特點：
MBE裝置的分類：
分子束外延工藝：
第四章氣相沉積設備
CVD塗層設備係統主要技術指標
CVD塗層設備係統各部分功能及設計要求
自動控製程序流程圖
第五章預處理主要輔助設備
5.1清洗
5.2刃口強化
5.2.2刃口強化工藝及設備
5.3噴砂
第六章膜層質量測試
6.1膜層宏觀性能檢測
2.膜層厚度測量
3.膜層附著力測試
4.膜層內應力測試
6.2膜層內在質量測試
1.顯微組織形貌分析
2.膜層的晶體結構分析
3.膜層成分分析
第七章氣相沉積技術應用領域
7.1在硬質塗層中的應用
新型硬質塗層的發展趨勢
典型硬質塗層工具應用舉例
非金屬超硬塗層沉積技術
7.2在防護塗層中的應用
7.3在光學薄膜中的應用
7.4在建築鍍膜玻璃中的應用
7.5在太陽能利用領域中的應用
7.6在集成電路中的應用
7.7在信息顯示器件中的應用
7.8在信心存儲中的應用
7.9在裝飾飾品中的應用
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