液晶材料與技術之LCD工藝技術(PPT 124頁)

陣列關鍵工藝
製屏關鍵工藝
模組關鍵工藝
液晶材料與技術（9）——LCD工藝技術
Array製程中的幾個主要技術
洗淨原理及方法
各種常用的基板清洗方法的比較
洗淨設備
什麼是PVD？
1、濺射原理
（1）直流濺射（RC):陰極與基板直接加載直流電壓。
直流濺射的優點：
直流濺射的缺點：
（2）射頻濺射（RF）
射頻濺射的優點
磁控濺射
（5）、離子束濺射
CVD
化學氣相沉積技術原理
1、矽烷（氣）
2、磷烷
3、氨氣
4、笑氣
5、氫氣
6、氮氣
CVD設備廠家，AKT（第一），ULVAC(第二）。
液晶屏（盒） 前工程
摩擦取向技術存在一些問題
非摩擦法液晶分子取向技術
（1）用偏振激光或紫外光輻射聚合物表麵，使液晶分子取向。
（2）使用LB（langmuir-blodget）膜技術使液晶分子取向。
液晶盒後工程
CuttingMethod
CuttingProcess
激光融化切割方法
第二代激光切割法
第二代激光切割法的特點：
第二代激光切割法的缺點：
第三代激光切割法——雙激光法
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