磁控濺射鍍膜原理及工藝培訓教材(PPT 44頁)

摘要
緒論
1磁控濺射原理
1.1磁控濺射種類
1.1.1技術分類
2.1.2氣體環境
2.1.3氣體壓強
2.1.4傳動速度
2.1.5距離與速度及附著力
2.2係統參數
2.2.1靶結構
2.2.2磁場
2.3可變參數
2.3.1功率
2.3.2速度
2.3.3氣體
2.3.4陰極/基片之間的關係
3.2試驗設備
3.3試驗原理
3.5不同工作氣壓下所得試驗結果
3.5.1試驗結果分析
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