COMSIC製造工藝流程(DOC 31頁)

1.典型的亞微米CMOSIC製造流程圖；
2.描述CMOS製造工藝14個步驟的主要目的；
4.討論每一步CMOS製造流程的關鍵工藝
第七章COMSIC製造工藝流程
CMOS工藝流程中的主要製造步驟
CMOS製作步驟
一、雙井工藝
二、淺曹隔離工藝
三、PolyGateStructureProcess
四、輕摻雜；漏注入工藝第六層掩膜
2）P-輕摻雜漏注入（低能量，淺結）
五、側牆的形成
六、源/漏注入工藝
七、接觸（孔）的形成鈦金屬接觸的主要步驟
八、局部互連工藝
LI氧化矽介質的形成
1）氮化矽化學氣相澱積
2）摻雜氧化物的化學氣相澱積
3）氧化層拋光（CMP）
4）第九層掩膜，局部互連刻蝕
LI金屬的形成1)金屬鈦澱積（PVD工藝）
2）氮化鈦澱積3）鎢澱積
4）磨拋鎢(化學機械工藝平坦化)
九、通孔1和鎢塞1的形成
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