微電子工藝流程(PDF 44頁）

一.微電子工藝概述
二.微電子工藝步驟介紹
1. 潔淨室和清洗
2. 氧化和化學氣相澱積
3. 光刻和腐蝕
4. 擴散和離子注入
5. 金屬連接和平麵化
三. 標準CMOS工藝流程
1、初始清洗
2、前置氧化
3、澱積氮化矽
4、P阱的形成
5、去除氮化矽
6、P阱離子注入
7、P阱退火及氧化層的形成
..............................