TFT-LCD陣列工藝介紹(PPT 38頁)
TFT-LCD陣列工藝介紹(PPT 38頁)內容簡介
一、TFT-LCD的基本構造
二、ARRAY工藝簡介
三、陣列檢查介紹
TFT-LCD陣列工藝介紹
主要內容
二、ARRAY工藝介紹
2.1陣列基板的構造和功能
2.2陣列基板的製造原理
2.3陣列基板的製造工藝流程
圖6TFT器件的基本構造
當Vg≤Vth時
Ids=0
當Vg>Vth且VdsIds=(W/L)?μC0{(Vg-Vth)Vds-Vds2/2}
當Vg>Vth且Vds>Vg-Vth時
Ids=(W/L)?μC0(Vg-Vth)2/2
式中,Vth:閾值電壓
μ:電子遷移率
C0:單位麵積柵絕緣層電容
2.2陣列基板的製造原理
反應氣體在高頻電場作用下發生等離子體(PLASMA)放電。
等離子體與基板發生作用將沒有被光刻膠掩蔽的薄膜刻蝕掉。
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二、ARRAY工藝簡介
三、陣列檢查介紹
TFT-LCD陣列工藝介紹
主要內容
二、ARRAY工藝介紹
2.1陣列基板的構造和功能
2.2陣列基板的製造原理
2.3陣列基板的製造工藝流程
圖6TFT器件的基本構造
當Vg≤Vth時
Ids=0
當Vg>Vth且Vds
當Vg>Vth且Vds>Vg-Vth時
Ids=(W/L)?μC0(Vg-Vth)2/2
式中,Vth:閾值電壓
μ:電子遷移率
C0:單位麵積柵絕緣層電容
2.2陣列基板的製造原理
反應氣體在高頻電場作用下發生等離子體(PLASMA)放電。
等離子體與基板發生作用將沒有被光刻膠掩蔽的薄膜刻蝕掉。
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