專用集成電路設計課程(PDF 51頁）

專用集成電路設計課程(PDF 51頁）內容簡介

集成電路材料
基本的半導體製造工藝
CMOS工藝基礎
版圖設計規則、注意事項、檢查
集成電路工藝的基本任務
材料生長與澱積：形成不同材料構成的工藝層
光刻：將各種工藝層刻蝕成不同的形狀，形成互連
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