集成電路工藝基礎培訓課件(ppt 52頁)
集成電路工藝基礎培訓課件(ppt 52頁)內容簡介
主要內容
核碰撞和電子碰撞
注入離子在無定形靶中的分布
注入損傷
熱退火
離子注入
離子注入應用
離子注入係統的原理示意圖
離子注入係統原理-離子源
離子注入係統原理-磁分析器
離子注入係統原理
離子注入的優缺點
4.1 核碰撞和電子碰撞
核碰撞和電子碰撞
核阻止本領
電子阻止本領
4.2 注入離子在無定形靶中的分布
注入離子在無定形靶中的分布
**離子注入的溝道效應
射程分布與注入方向的關係
怎麼解決???
淺結的形成
注入後發生了什麼………
注入損傷
輕離子注入
重離子注入
非晶層的形成
注入後需要做什麼……
硼的退火特性
磷的退火特性
熱退火過程中的擴散效應
快速熱退火(RTA)
作業:
..............................
上一篇:工藝培訓課程(doc 44頁)
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